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東營高純鎂砂有哪(nǎ)些常見的生產工藝方法及原(yuán)理

發表時間:2023-05-04 訪(fǎng)問量:28442

高純東營鎂砂是指含量在99%以上(國內往往把氧化鎂含(hán)量大於98%的鎂砂稱為高純(chún)鎂砂),體積密度大於3.4g/cm3的燒結氧化鎂。高純鎂砂的生產方法均以(yǐ)含鎂化合物為原料,有(yǒu)的先製成輕質氧化鎂,經過電熔凝或重燒(死燒)製得高純鎂砂,也有的采用氯化鎂噴霧熱分解(jiě)煆燒法生產高純鎂砂。以下是常用的4種方法的工藝及原理:

1、菱鎂(měi)礦生產高純鎂砂(shā)

首先選取優質菱(líng)鎂礦(kuàng),把菱鎂礦放入煆燒爐中進行煆燒,溫度控製在1000℃左右(煆燒爐可(kě)采用(yòng)反射爐、沸騰爐或(huò)豎窯爐),生成輕燒氧化鎂粉(fěn)(也稱為輕燒鎂砂),反(fǎn)應式如(rú)下:

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將輕燒氧化鎂粉(fěn)進行細磨,細磨可釆用雷(léi)蒙機,球磨機或高速粉碎機等。細磨到一定粒度,進行壓球。控製輕燒粉細度(dù)是為了增加壓球的體密度;壓球采取(qǔ)高壓壓球機或對輥壓球機。

將壓製成的輕燒鎂砂球放入高溫爐中進行高溫燒結,高溫鍛燒爐的爐溫控製在16002000℃左右。在高溫煆燒過(guò)程中,隨著溫度升高,氧化鎂體積逐(zhú)漸收(shōu)縮,密(mì)度增加,氧化鎂晶體發育長大,其組織結構越來越致密(mì),鍛燒(shāo)完成後氧(yǎng)化鎂的體積密度可達3.4g/cm3以上。

目前國內采用此法生產高純鎂砂的質量還不(bú)夠(gòu)理想,氧化鎂(měi)含量更(gèng)高隻能達到98%左右,要使(shǐ)氧化鎂含量達到99%以上比較困難。因天然菱(líng)鎂礦煆(duàn)燒成的高純鎂砂中含(hán)有CaO,SiO2,Fe,B等雜質,很難把這些雜質從固相混(hún)合物(wù)中分離,因而要使高純鎂砂的(de)純度進一(yī)步提高,存在(zài)著很多技術性問題,解決這些技術性因素將(jiāng)在生產中提高生產成本。

2、鹵水生產高純鎂砂的生產方法

用鹵(lǔ)水(shuǐ)生(shēng)產高純鎂砂,首先需要生產輕(qīng)質氧化鎂。生產輕(qīng)質氧化鎂的(de)方法有鹵水碳(tàn)銨法,鹵水純堿(jiǎn)法,鹵水石灰法和(hé)鹵水氨法等。

(1)鹵水碳銨法主要反應式:

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鹵水碳銨法是先將商水淨化,再以碳酸氫銨作沉澱劑(碳酸氫銨價廉易得,沉澱效率高)進行反應,反應溫度控製在3550℃之間(jiān),生成堿式碳酸鎂沉澱,沉澱經洗滌、脫(tuō)水、鍛燒(溫度控製在(zài)800900℃左右)等步驟,製得輕質氧化鎂。將製得輕質氧化鎂進(jìn)行粉碎,並把輕質氧化鎂(měi)壓(yā)製成球形入高溫煆燒爐重燒,爐內(nèi)溫度控製在16002000℃,氧(yǎng)化鎂物料在爐內停留46h,得高純鎂砂。

(2)鹵水(shuǐ)-純堿法主要反應式:
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鹵水-純堿法是將淨化的鹵水與沉澱劑碳酸鈉(nà)進行反應,反應(yīng)溫度(dù)控製在3550℃,生成堿式碳酸(suān)鎂沉澱,然後對堿式碳酸鎂沉澱進行洗滌(dí)、脫水,將脫盡水的堿式碳酸鎂放入煆燒爐中(zhōng)進行鍛燒,煆燒溫度控製在900℃左右,得輕質氧化(huà)鎂。將輕質氧化鎂粉碎(suì),並用(yòng)壓球(qiú)機壓(yā)製成球形,然後入高溫鍛燒爐進行重燒,重燒溫度控製在16002000℃之間,氧化鎂物料在爐內停留46h,得高純鎂砂。

(3)鹵水-氨法主要反應式:
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鹵水-氨法是采用淨化的鹵水加入(rù)堿性較弱的氨水作為沉澱劑,生成氫氧(yǎng)化鎂沉(chén)澱。此法生成(chéng)的氫氧化鎂結晶度高,沉降(jiàng)速度快,容(róng)易對氫氧化鎂沉澱結晶過濾和洗滌,易除去雜質離子,並且容易控製產品質量。把洗滌幹淨的氫氧化(huà)鎂脫去(qù)水分,放入煆燒爐中進行鍛燒,生成輕質氧化鎂。將輕(qīng)質氧化鎂粉碎並(bìng)用壓球機製成球形,為了增加球形的壓實(shí)密度,采取(qǔ)在200℃左(zuǒ)右壓製(zhì),然後將壓製球送入高溫煆燒爐中,溫度控製在16002000℃之間重(chóng)燒(死燒),製成高純鎂砂。

(4)鹵水-石(shí)灰石法主要反應式為:

鹵水石灰石法(fǎ)是(shì)先將石灰石或白雲石煆燒成(chéng)熟(shú)石灰(CaO)或白雲石熟料(MgO+CaO),然後將(jiāng)熟石灰或白(bái)雲石熟料水化(huà)生成氫氧化鈣或氫氧化鈣與氫氧化鎂混合料作為沉澱劑,並與鹵水進行沉澱反應,生成氫氧(yǎng)化鎂沉澱(diàn),將氫氧化鎂沉澱過濾,洗滌(dí),然後將脫水氫(qīng)氧化鎂進(jìn)行煆燒得氧化鎂,再將氧化鎂壓球,放入高溫(wēn)煆燒爐進行重燒,溫度控製在16002000℃,最終(zhōng)得高純鎂砂。

在高純鎂砂(shā)的生(shēng)產過程中,提高產品的純度,有(yǒu)效降低有害雜質的含量是主要(yào)的,以先製取高純度氧化鎂作為保證,最終高純鎂砂(shā)產品更容易達到高純的要求(qiú)。

在上述用鹵水為原料生產輕質氧化鎂的幾種方法,因都在液(yè)相條件下進行反應,可通過加入沉澱劑,洗滌和化學精致等方法除去雜質離子,以保(bǎo)證堿式(shì)碳酸(suān)鎂或氫氧(yǎng)化鎂的純度,一旦工藝確定,最終高純(chún)鎂(měi)砂純度可達到99.9%以上。另外用鹵水生產高純鎂砂也有許多(duō)缺點與難點,主要有生產成本過高,能源消耗(hào)大,生產工藝複雜,有許多技術難點與設備難點。

3、噴霧熱分(fèn)解法生產高純鎂砂

噴(pēn)霧熱分解法生產(chǎn)高純鎂砂生產原理如下。

噴霧熱分解煆燒法生產高純(chún)鎂砂的生產原理是先將鹵水進(jìn)一步濃縮至一定濃度,將濃縮鹵(lǔ)水直接噴入到熱分解反應(yīng)爐中進行熱(rè)分解,煆燒後產出粗氧(yǎng)化鎂。因粗氧化鎂中含有未完全分解的氯(lǜ)化物,可采用水多次洗滌的方法除去可溶性氯化物,使得粗(cū)氧化鎂完全水化生成為氫氧(yǎng)化鎂。將過(guò)濾後的氫氧化鎂濾餅鍛燒(shāo)成輕質(zhì)氧化鎂,然後壓製成球形送入高溫鍛燒爐中重燒,最終得(dé)高純鎂(měi)砂,其純度可達99%以(yǐ)上。此法基本反(fǎn)應式如下:

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生產方法如下所述。

(1)鹵(lǔ)水的淨化與濃縮鹵水的淨化主要采用(yòng)相應的措施除去在鹵水中的Fe2+、Na+、Ca2+、SO42-等雜(zá)質離子,除雜方法可參照第(dì)3章工業氧化鎂。

將淨化的鹵(lǔ)水再進行濃縮至一定濃度,使(shǐ)鹵水中氯化鎂(měi)的濃度(dù)在550g/L。

(2)鹵水的熱分解將濃縮的氯(lǜ)化鎂溶液直接噴入熱反應爐中進行(háng)熱分解,熱分解後得粗製氧化鎂。

(3)粗製氧化鎂的水解(jiě)和煆燒熱分解後所得的粗製(zhì)氧化鎂含有(yǒu)未分解的氯化鎂、氯化鈣和氯化鉀等一些氯化物(wù)。對粗製氧化鎂中含有(yǒu)的氯化物可通過用水洗滌的方法除去。因這些氯化物都溶於水,並使得粗製氧化(huà)鎂全部水解,生成氫氧化鎂。氫氧(yǎng)化(huà)鎂經過濾、脫水,得(dé)氫氧化鎂濾餅,再將其在煆燒(shāo)爐(或(huò)轉爐)中加(jiā)熱至8001000℃,氫氧化鎂生成輕質氧化(huà)鎂(měi)。

(4)重燒得高純鎂砂將上(shàng)述氧化鎂經過壓製成球形,然後放入到高溫煆燒爐(或豎(shù)窯爐(lú))中進行重燒(shāo),得到氧化鎂純度(dù)為99%以上,密度在3.4g/cm3以上的高純鎂砂。

噴(pēn)霧熱(rè)分解法生產高純鎂砂有一定的優點。如熱(rè)分(fèn)解時間短,粉體燒結性能好,操作過程簡單,反應(yīng)一次(cì)完成,並且可連(lián)續進行,有利於生(shēng)產,生產成(chéng)本較低。但此法(fǎ)也有缺點:因在噴霧(wù)熱分(fèn)解中生成氯化氫(qīng)氣體,對設(shè)備腐蝕性大,所以(yǐ)對設備的要求很高。另外,對氯化氫的吸收(shōu)和濃(nóng)縮(suō)有(yǒu)很大難度;粉塵捕集等對環境造成較大的(de)汙(wū)染。

另外也簡單介(jiè)紹一下水氯鎂石直接鍛燒生產高純鎂砂(shā),其主要反應為:

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此生產法采用水氯鎂石直接煆燒生成高純鎂砂,要達(dá)到高純度,一定要對水(shuǐ)氯鎂石原料進行淨化處理,使雜質(zhì)降低到最少。因原料含有雜質量較多,在煆燒過程中易進入(rù)產品中。

此外(wài),副產品氯化氫氣體對生產設備(bèi)有(yǒu)嚴重(chóng)的腐蝕性。這同噴霧熱(rè)分解法是相似的。

4、電熔法(fǎ)生產高純(chún)鎂砂的生產原理及生產方法

(1)生產原理把采用鹵水純堿法、鹵水碳銨法(fǎ)、鹵水氨水法和(hé)鹵(lǔ)水石灰法生產出的輕質氧化鎂,放入電熔爐(lú)中進行電熔冶煉,得高純鎂砂。也可(kě)采(cǎi)用菱(líng)鎂礦經輕燒製(zhì)成(chéng)輕燒(shāo)鎂(měi),然後把輕燒鎂放入(rù)電熔爐中進行電熔冶煉,最終得高(gāo)純鎂砂。

(2)生產方法將輕質氧化鎂或輕燒鎂粉,放入電熔(róng)爐中,插入電(diàn)極,在控製一定的(de)大電流、低電壓的條件(jiàn)下進行電熔,電熔所得高純鎂砂的含量可達(dá)99.9%,密(mì)度可(kě)達(dá)3.5g/cm3以上。產品的質量主要決定於電流電(diàn)壓的大(dà)小,以及電熔的時間長短等。

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